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实验室去离子水设备 尼珂NC-H

发布日期:2020-03-31

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简要描述:

实验室去离子水设备 尼珂NC-H系列介绍采用微电脑全自动制备RO纯水和UP超纯水,附加制备直饮水NICO(尼珂)中文菜单,椭圆形面膜液晶屏控制,图文动画显示时钟显示,1~1000分钟时间设定、定时定量定质取水 .

实验室去离子水设备 尼珂NC-H 采用微电脑全自动制备RO纯水和UP超纯水,附加制备直饮水NICO(尼珂)中文菜单,椭圆形面膜液晶屏控制,图文动画显示                                                   

时钟显示,1~1000分钟时间设定、定时定量定质取水,取水自动设置,从500ml-5000ml无级调速取水ABS一体化防锈耐腐蚀机箱,安全绝缘,符合GLP要求具有特殊深度除盐处理,耗材到期更换自动提醒功能附加德国原装0.22μm囊式超滤,有效去除热源,5级滤芯(5个)RO膜防垢自动冲洗程序,开机系统自检诊断,系统漏水报警自动停机、低压缺水、满水停机保护,停电复位,UV灯失效、水质超标报警等进口滤壳水源预处理,正反手、自动冲洗,源水、纯水和超纯水多路水质在线检测显示,水质水量系统升级功能美国进口VITRO紫外灯,UV双波长185nm和254nm,光程1cm,吸光度≤0.001,高压灭菌降TOC,进口陶氏RO膜,两级反渗透系统设计、美国海德仑四级混床抛光核子级树脂内循环消毒装置,可加药进行管道循环消毒,独立式耗材配件组(非整体式),方便拆卸更换美国IPP增压泵,低压超静音,台湾压德克电磁阀,有效延长产品的使用寿命,使性能得到zui大化的保证可选RS232接口远程控制监控,记录历史水质及数据收集具备水质水量升级功能。

实验室去离子水设备 尼珂NC-H技术参数:

 超纯水设备工作原理

  1. 水进入纯化系统,主要部分流入树脂 / 膜内部,而另一部分沿模板外侧流动,以洗去透出膜外的离子。

  2. 树脂截留水中的溶存离子。

  3. 被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动。

  4. 阳离子透过阳离子膜,排出树脂 / 膜之外。

  5. 阴离子透过阴离子膜,排出树脂 / 膜之外。

  6. 浓缩了的离子从废水流路中排出。

  7. 去离子水从树脂 / 膜内流出。
主要用途
1、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。
2、电子产品的生产和清洗。
3、电池产品的生产。
4、半导体产品的生产和清洗。
5、电路板的生产和清洗。
6、其他高科技精细产品的生产。

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